| 张铭,何家文.TiN薄膜掠射侧倾法应力测试[J].实验力学,2000,15(4): |
| TiN薄膜掠射侧倾法应力测试 |
| The Stress Measurement for TiN Films by Glancing Method |
| |
| DOI： |
| 中文关键词: 掠射侧倾法 应力 薄膜 氮化钛 |
| 英文关键词:glancing method,stress,thin f |
| 基金项目:国家自然科学基金项目(No.59731020) |
| 张铭 何家文 |
张铭(西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)
;何家文(西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)
|
| 摘要点击次数: 319 |
| 全文下载次数: 15 |
| 中文摘要: |
| 由于薄膜厚度很薄，使得在应用传统X射线法测试薄膜应力时，存在透入深度过深且衍射强度不够的缺点；而且一般气象沉积膜都存在择优取向的情况，应用常规法（或侧倾法）测试时易发生sin^2ψ曲线弯曲现象。准聚焦衍射几何也使得常规法在无应力情况下产生正、负ψ的sin^2ψ曲线发生分离现象。故与传统方法相比，掠射侧倾法具有透入深度浅、透入深度随ψ角变化不大以及对织构影响不敏感以及没有无应力试样的正、负ψ曲线分离等优点，所以掠射侧倾法是一种更适于薄膜应力测量的测试方法。本文应用掠射侧倾法测量了PVD和PCVD工艺的TiN薄膜的内应力情况，结果表明制备工艺对于气象沉积膜内的应力状态有较大影响，而且薄膜内的应力状态比较复杂，一般处于三向应力状态。 |
| 英文摘要: |
| |
| 查看全文 下载PDF阅读器 |
| 关闭 |
|
|
|
|
|
